通過采用“使用空心陰極樣品臺的低壓放電 CVD 方法"，可以低損傷地涂覆鋨。在整個空心陰極筒內(nèi)產(chǎn)生高密度等離子體，可實現(xiàn)均勻涂層，因此推薦給那些關(guān)心樣品尺寸和樣品高度的人。Osmium Coater 為設(shè)備的方便和安全操作提供了廣泛的選擇。

設(shè)備	主要特點	選項
	HPC-1SW 簡單的鋨鍍膜機。 手動涂裝實現(xiàn)快速涂裝。 適用于熟悉鋨處理的專業(yè)人士的低成本鍍膜機。	● OSK 安瓿破碎機構(gòu)
	機型配備HPC-20觸控面板和全自動鍍膜。 任何人都可以輕松進行鋨沉積。 標配破鋨機構(gòu)，根據(jù)屏幕顯示進行安瓿更換。 堅守每一個環(huán)節(jié)，我們?nèi)〉昧烁鼜姷陌踩冃А?/span> 我們?yōu)楦奖恪⒏踩脑O(shè)備操作準備了多種選擇。	●HRP-20 旋轉(zhuǎn)泵BOX ●SPG-20 厚膜控制程序 ●OSD-20 專用通風罩 ●OST-20 鋨捕集器